光刻机分类有哪些类型的

光刻机分类主要根据光源类型和光刻方式：一、光源类型紫外（uv）光刻机极紫外（euv）光刻机二、光刻方式接触式光刻（已淘汰）近距离曝光（proximity）光刻投影式光刻（主流方式）浸没式光刻 a) 水浸没式光刻 b) 油浸没式光刻

光刻机类型

光刻机是一种用于制造集成电路的基础设备，主要用于将掩模上的图案转移到晶圆基板之上，形成电路结构。市面上光刻机通常根据其光源类型和光刻方式进行分类。

分类方式

一、光源类型

紫外（UV）光刻机：使用紫外光作为光源，主要应用于制造较大的半导体器件。

极紫外（EUV）光刻机：使用极紫外光作为光源，具有更短的波长，能够实现更高的精细度，主要应用于制造先进的半导体器件。

二、光刻方式

接触式光刻：掩模直接接触晶圆表面进行曝光，精度较低，已逐渐被淘汰。

近距离曝光（Proximity）光刻：掩模与晶圆之间保持一定的距离进行曝光，精度高于接触式光刻。

投影式光刻：使用镜头组将掩模上的图案投射到晶圆表面，精度更高，是主流的光刻方式。

浸没式光刻：在掩模和晶圆之间灌入液体，提高分辨率和曝光均匀性。

水浸没式光刻：使用水作为浸没液体，成本较低。

油浸没式光刻：使用光学性能更好的油作为浸没液体，精度更高。

三、其他分类

除了上述分类外，光刻机还可以根据以下因素进行进一步分类：

分辨率：能够实现的最小线宽或图案尺寸。

通量：每小时生产晶圆的数量。

对准精度：将掩模图案准确转移到晶圆上的能力。

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